Rusia creará sus propios escáneres EUV para chips: más baratos y fáciles de fabricar que los de ASML
Rusia ha presentado un ambicioso proyecto para desarrollar una tecnología de litografía para escáneres EUV que promete ser más económica y sencilla que la de ASML, líder mundial en este campo. Este avance, liderado por el Instituto de Física de Microestructuras (IPM RAS), busca posicionar al país como un actor clave en la producción de chips, ofreciendo equipos que, aunque menos potentes, serán más accesibles y eficientes para mercados fuera del top 5 global. ¿Realmente pueden lograrlo cuando Japón y EE.UU. fracasaron?
El proyecto ruso tiene como eje central la reducción de la longitud de onda de 13,5 nm, utilizada por ASML, a 11,2 nm. Esta innovación no solo mejora la resolución en un 20%, sino que también disminuye los costos asociados con la producción y operación de los sistemas, lo cual, suena muy ambicioso sin duda.
Rusia quiere fabricar sus propios escáneres y herramientas de fabricación para EUV: serán más simples y fáciles de crear
A diferencia de ASML, que utiliza plasma de estaño, la litografía rusa empleará xenón como fuente, prolongando la vida útil de los componentes ópticos y reduciendo el mantenimiento.
"Esto reducirá las dimensiones generales y simplificará significativamente la producción de espejos, además de reducir significativamente el coste de producción de lentes. Podemos esperar que el aumento de la proporción de silicio en la resistencia conduzca a un aumento notable en la eficiencia de la misma a una longitud de onda de 11,2 nm en comparación con 13,5 nm", enfatiza Chkhalo.
Otra de las ventajas del sistema propuesto es la posibilidad de usar resistencias basadas en organosilicio, mejor adaptadas a la longitud de onda más corta. Aunque el rendimiento esperado, medido en la capacidad de procesar obleas, será menor que el de ASML, el enfoque se alinea con las necesidades de mercados más pequeños, facilitando el acceso a la tecnología de litografía avanzada. Además, según la tabla facilitada (ver más abajo), conseguirían dicha longitud de onda de 11,2 nm con solamente 3,6 kW de potencia láser, lo que es aproximadamente 2,7 veces menor que lo que consigue ASML con casi 6 veces menos potencia.
Si es cierto lo que dicen, y pueden crearlo, es un paso de gigante frente al líder mundial europeo. Por lo pronto, lo que dicen desde Rusia es que van a comenzar con la topología de 350 nm antes de terminar este año y para 2026 ya deberían estar en 130 nm, siendo el objetivo, como veremos más adelante, los 7 nm en 2028.
Un enfoque estratégico dividido en tres etapas
El desarrollo de esta tecnología se estructura en tres fases. La primera consiste en investigaciones experimentales y el desarrollo de tecnologías críticas. En la segunda, se diseñará un prototipo funcional que integre sistemas clave, como lentes de seis espejos y sistemas láser de alta potencia. Finalmente, la tercera etapa busca escalar la producción para satisfacer las necesidades del mercado ruso y potencialmente internacional.
"La razón del fracaso y, por el contrario, del éxito de ASML, en nuestra opinión, es que ASML pudo integrar en su producto los mejores logros mundiales en todos los componentes principales", destaca Chkhalo.
Rusia ha optado por no replicar la estrategia de ASML debido a los elevados costos y la complejidad técnica de sus equipos. En lugar de ello, ha desarrollado un enfoque alternativo que prioriza la asequibilidad y la adecuación a su mercado interno, así como a empresas más pequeñas fuera del top 5 mundial.
La implementación de esta hoja de ruta no solo busca dotar a Rusia de independencia tecnológica frente a las sanciones internacionales, sino que también pretende posicionarla como un actor relevante en mercados menos exigentes. A pesar de los desafíos económicos y de talento, el país avanza hacia la producción de litografías adaptadas a estándares actuales, como los 7 nm, con la intención de entrar en operación completa para 2028.
Esta estrategia no solo redefine el panorama tecnológico en Rusia, sino que también introduce un competidor más accesible en un mercado dominado por gigantes como ASML, Nikon y Tokio Electron.