Intel amplía su colaboración con ASML para tener acceso a la máquina litográfica más avanzada

Intel anunció que su acuerdo de colaboración con ASML Holding se ha ampliado hasta el año 2025, y esto significa acceder a su máquina litográfica más avanzada, la TWINSCAN EXE:5200, lo que le permitirá a Intel fabricar las obleas de vanguardia más avanzadas del mercado, no solo para su propia producción, sino también para otras compañías que contraten sus servicios de fundición por medio de Intel Foundry Services.

Dicho de otra manera, Intel ya se ha asegurado tener acceso a la primera maquina existente para sus procesos de fabricación futuros.

Intel y ASML amplían su colaboración

Hoy, ASML Holding N.V. (ASML) e Intel Corporation (INTC) han anunciado la última fase de su larga colaboración para avanzar en la tecnología de litografía de semiconductores. Intel ha emitido su primera orden de compra a ASML para la entrega del primer sistema TWINSCAN EXE:5200 de la industria -un sistema de producción de alto volumen EUV con una alta apertura numérica y una productividad de más de 200 obleas por hora- como parte del marco de colaboración a largo plazo de las dos empresas en High-NA.

"La visión de Intel y su temprano compromiso con la tecnología High-NA EUV de ASML es una prueba de su incesante búsqueda de la Ley de Moore. En comparación con los sistemas EUV actuales, nuestra innovadora hoja de ruta de EUV ampliada ofrece continuas mejoras litográficas a una complejidad, coste, tiempo de ciclo y energía reducidos que la industria de los chips necesita para impulsar un escalado asequible hasta bien entrada la próxima década", dijo Martin van den Brink, Presidente y CTO de ASML.

Intel fue la primera en comprar el anterior sistema TWINSCAN EXE:5000 en 2018, y con la nueva compra anunciada hoy, la colaboración continúa el camino para la fabricación de producción de Intel con High-NA EUV a partir de 2025.

"El enfoque de Intel es mantenerse a la vanguardia de la tecnología de litografía de semiconductores y hemos estado construyendo nuestra experiencia y capacidad de EUV durante el último año. Trabajando estrechamente con ASML, aprovecharemos la alta resolución de la tecnología EUV como una de las formas de continuar con la Ley de Moore y mantener nuestra sólida historia de progresión hasta las geometrías más pequeñas", dijo la Dra. Ann Kelleher, vicepresidenta ejecutiva y directora general de Desarrollo Tecnológico de Intel.

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